用于曝光设备的扫描工作台技术

步进扫描曝光设备产生的抗蚀图像质量取决于晶片台与掩模台的同步性能、光学系统的质量。要获得高生产效率和０２５ μｍ 以下的分辨率能力，需要精心设计的工作台工程技术。