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低温化学气相沉积TiN及其应用
作者姓名:
胡传胜
摘 要:
本文主要介绍一种化学气相沉积氮化钛涂层的新方法,该涂层是采用亚氯化钛和氨在低压和450℃-650℃的条件下获得的,在沉积室中反应形成的。此法获得的TiN涂层有良好的表面结合力以及抗蚀和耐腐性能,文中除对其工序与涂层性能予以介绍外还着热处重说明它在塑料工业模具听应用。
关 键 词:
化学气相沉积 氮化钛 覆层
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