|
|||||
|
|
| H2O2—H2SO4粗化蚀刻液中H2O2浓度的快速测定 | |
| 作者姓名： | 董超 董根岭 |
| 作者单位： | 武汉化工学院精细化工系!邮编430071(董超)，湖北大学化学系!邮编430062(董根岭，周完贞) |
| 摘 要： | 根据Ｈ２Ｏ２－Ｈ２ＳＯ４粗化蚀刻液中的Ｈ２Ｏ２与过量Ｆｅ＾２＋离子的定量氧化还原反应，用伏安法测定剩余Ｆｅ＾２＋离子在铂电极上极氧化峰电流，求算Ｈ２Ｏ２的浓度。方法简单，快速，适用于印制电路板生产现场监控。 |
| 关 键 词： | 过氧化氢 伏安法 刻蚀液 浓度 印制电路板 |
| 本文献已被 CNKI 维普 等数据库收录！ | |