| 氢化非晶硅的红外光谱及氢释放的研究 |
| |
| 引用本文： | 李牧菊,杨柏梁,朱永福,袁剑峰,刘传珍,廖燕平,吴渊. 氢化非晶硅的红外光谱及氢释放的研究[J]. 液晶与显示, 1999, 14(3): 193-198 |
| |
| 作者姓名： | 李牧菊 杨柏梁 朱永福 袁剑峰 刘传珍 廖燕平 吴渊 |
| |
| 作者单位： | 中国科学院长春物理研究所,北方液晶工程研究开发中心,吉林,长春,130021 |
| |
| 摘 要： | 用等离子体增强化学气相淀积（ Ｐ Ｅ Ｃ Ｖ Ｄ）制备了氢化非晶硅薄膜（ａ Ｓｉ∶ Ｈ）并进行了退火实验， 利用红外吸收光谱（ Ｉ Ｒ）和金相显微镜研究薄膜中的氢含量及退火前后的脱氢现象， 得出材料组成及热稳定性对衬底温度 Ｔｓ 和射频功率 Ｐｒｆ 的依赖关系。
|
| 关 键 词： | 非晶硅 化学气相淀积 红外光谱 金相显微 |
Infrared Spectrum and Hydrogen Release of Hydrogenated Amorphous Silicon |
| |
| LI Mu-ju,YANG Bai-liang,ZHU Yong-fu,YUAN Jian-feng,LIU Chuan-zhen,LIAO Yan-ping,WU Yuan. Infrared Spectrum and Hydrogen Release of Hydrogenated Amorphous Silicon[J]. Chinese Journal of Liquid Crystals and Displays, 1999, 14(3): 193-198 |
| |
| Authors: | LI Mu-ju YANG Bai-liang ZHU Yong-fu YUAN Jian-feng LIU Chuan-zhen LIAO Yan-ping WU Yuan |
| |
| Abstract: | |
| |
| Keywords: | amorphous silicon CVD IR spectrum metaloscope |
| 本文献已被 CNKI 维普 万方数据 等数据库收录！ |
|
