|
|||||
|
|
| 氯离子在光亮镀铜中的作用及控制 | |
| 作者姓名： | 黄玉文 |
| 作者单位： | 江南计算所 |
| 摘 要： | Cl~-在光亮硫酸铜镀液中具有不可忽视的作用,只有适量的Cl~-才能得到全光亮的铜镀层.对一般电镀可控制在10～80ml/L,对印制电路电镀铜,必须严格控制在40～60mg/L.此外,Cl~-能够与镀液中Cu~+生成CuCl沉淀,从而减少镀层"铜粉"的产生,使镀层结晶致密、精细而不粗糙.Cl~-浓度过低(小于20mg/L),镀液的整平性能和铜镀层的光亮度下降,严重时镀层产生针孔、毛刺和"阶梯"状;而Cl~-浓度过高,磷铜阳极钝化,影响阳极正常溶解,镀层光亮度下降,且在小电流 |
| 本文献已被 CNKI 等数据库收录！ | |