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| 干法制膜CVD技术 | |
| 引用本文： | 李望.干法制膜CVD技术[J].电镀与精饰,1999(1). |
| 作者姓名： | 李望 |
| 摘 要： | 化学气相沉积（ＣｈｅｍｉｃａｌＶａｐｏｒＤｅｐｏｓｉｔｉｏｎ，简称ＣＶＤ）是利用化学反应由气相生长固体物质的方法。一般把反应物是气体而生成物之一是固体的反应称为ＣＶＤ反应。通常ＣＶＤ是在高温下反应制取所需要的薄厚膜。ＣＶＤ法可制成各种薄膜和形成不同薄... |
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