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高阻值Cd_(1-x)Zn_xTe晶体的生长及其性能测试
引用本文:李国强,谷智,介万奇. 高阻值Cd_(1-x)Zn_xTe晶体的生长及其性能测试[J]. 半导体学报, 2003, 24(8): 833-836
作者姓名:李国强  谷智  介万奇
作者单位:西北工业大学凝固技术国家重点实验室 西安710072(李国强,谷智),西北工业大学凝固技术国家重点实验室 西安710072(介万奇)
基金项目:国家自然科学基金资助项目 (批准号 :5 9982 0 0 6)~~
摘    要:通过适当的工艺措施,采用Bridgman法生长了直径为30mm的X射线及γ射线探测器级的Cd0 9Zn0 1Te晶锭.测试结果表明:该晶锭结晶质量良好,位错密度低,成分均匀,杂质含量低,红外透过率和电阻率都十分接近本征Cd0 9Zn0 1Te的值.并从晶体的生长特性、缺陷和杂质的角度,分析了生长高性能晶体的条件,研究了生长Cd1-xZnxTe晶体的x值与缺陷和杂质浓度之间的关系

关 键 词:Cd1-xZnxTe   布里奇曼法   电阻率   红外透过率   结晶质量

Growth of High Resistance Cd_(1-x)Zn_xTe Crystal and Its Property Investigations
Li Guoqiang,Gu Zhi and Jie Wanqi. Growth of High Resistance Cd_(1-x)Zn_xTe Crystal and Its Property Investigations[J]. Chinese Journal of Semiconductors, 2003, 24(8): 833-836
Authors:Li Guoqiang  Gu Zhi  Jie Wanqi
Abstract:
Keywords:Cd 1-x Zn x Te  Bridgman method  resistance  transmittance  crystallinity
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