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AlGaN/GaN HEMT欧姆接触的研究进展
引用本文:裴风丽,冯震,陈炳若.AlGaN/GaN HEMT欧姆接触的研究进展[J].半导体技术,2007,32(1):6-11.
作者姓名:裴风丽  冯震  陈炳若
作者单位:武汉大学,物理科学与技术学院,武汉,430072;中国电子科技集团公司,第十三研究所,石家庄,050051;中国电子科技集团公司,第十三研究所,石家庄,050051;武汉大学,物理科学与技术学院,武汉,430072
基金项目:国家重点实验室基金 , 国防科技应用基础研究基金 , 国家重点基础研究发展计划(973计划)
摘    要:从欧姆接触形成的机理出发,介绍了在AlGaN/GaN HEMT中实现源和漏区欧姆接触的各种方法,如表面处理技术、金属化系统和重掺杂技术等.回顾了近年来这些方法的研究进展.

关 键 词:欧姆接触  铝镓氮/氮化镓  高电子迁移率晶体管
文章编号:1003-353X(2007)01-0006-06
收稿时间:2006-08-10
修稿时间:2006年8月10日

Investigation on the Ohmic Contacts in AlGaN/GaN HEMTs
PEI Feng-li,FENG Zhen,CHEN Bing-ruo.Investigation on the Ohmic Contacts in AlGaN/GaN HEMTs[J].Semiconductor Technology,2007,32(1):6-11.
Authors:PEI Feng-li  FENG Zhen  CHEN Bing-ruo
Abstract:Based on the mechanism of ohmic contacts, various kinds of methods for realizing ohmic contacts in AlGaN/GaN HEMTs were introduced, such as surface treatment, metallization scheme, heavily doped technology and so on. The resent progress and development of these methods were reviewed.
Keywords:ohmic contacts  AlGaN/GaN  HEMTs
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