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高消光比介质薄膜偏振片的研制
作者姓名:朱震  孙龙英  李文生
作者单位:电子部11所,电子部11所,电子部11所
摘    要:为了提高偏振度和保证P偏振光透射率,设计了非λ/4膜系组成的高陡度P偏振光特性曲线;选用了再现性好的Ti_3O_5和SiO_2材料组合制成24层非λ/4TiO_2-SiO_2组合的高消光比介质薄膜偏振片。其光学性能在入=1.064μm、θ=56.5°时,T_p≥95%,T-p/T_s>500,一般达1000以上。

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