| 直流电弧等离子体喷射法高速制备高质量纳米金刚石膜研究 |
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| 引用本文： | 相炳坤,左敦稳,李多生,陈荣发. 直流电弧等离子体喷射法高速制备高质量纳米金刚石膜研究[J]. 超硬材料工程, 2008, 20(5) |
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| 作者姓名： | 相炳坤 左敦稳 李多生 陈荣发 |
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| 作者单位： | 1. 南京航空航天大学江苏省精密与微细制造重点实验室,南京,210016;南京航空航天大学机电学院,南京,210016
2. 南京航空航天大学机电学院,南京,210016 |
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| 摘 要： | 利用直流电弧等离子体喷射法沉积装置在底径Ф65mm高5mm的Mo球面衬底上成功制备出纳米金刚石薄膜,文章研究了在稳定电弧状态下碳氢比对金刚石膜形貌的影响.通过扫描电子显微镜、原子力显微镜及Raman光谱对样品的晶粒尺寸及质量进行了表征. 研究结果表明: 在稳定电弧状态下,通过提高碳氢比可以在Mo球面衬底上的表面高速沉积出高质量的纳米金刚石薄膜, 晶粒尺寸大约为4～80nm,平均粒径27.4nm.
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| 关 键 词： | 纳米金刚石膜 直流电弧等离子体喷射法 碳氢比 |
Nano-diamond films high-speed and high-quality deposited by using DC arc plasma jet CVD |
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| XIANG Bing-kun,ZUO Dun-wen,LI Duo-sheng,CHENG Rong-fa. Nano-diamond films high-speed and high-quality deposited by using DC arc plasma jet CVD[J]. , 2008, 20(5) |
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| Authors: | XIANG Bing-kun ZUO Dun-wen LI Duo-sheng CHENG Rong-fa |
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