| COMPUTER SIMULATION ON THE DEPOSITION-DIFFUSION PROCESS IN F_e-65_(mg)·g~(-1) Si ALLOY THIN RIBBON |
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| 引用本文： | 王沿东,徐家桢,左良,梁志德.COMPUTER SIMULATION ON THE DEPOSITION-DIFFUSION PROCESS IN F_e-65_(mg)·g~(-1) Si ALLOY THIN RIBBON[J].材料研究学报,1996,10(2):125-129. |
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| 作者姓名： | 王沿东 徐家桢 左良 梁志德 |
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| 作者单位： | 东北大学 |
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| 摘 要： | 沉积－扩散法是制备特殊的有效方法之定，用计算机模拟研究了沉积－扩散生产Ｆｅ－６５ｍｇ．ｇ＾－１Ｓｉ合金薄带的工业可行性及热处理工艺条件（温度、１气体浓度、时间等）的影响，计算结果表明：沉积－扩散法制造工业用Ｆｅ－６５ｍｇ．ｇ＾－１Ｓｉ合金薄带是完全可行的；二步扩散较单步扩散明显缩短生产时间。
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| 关 键 词： | 软磁合金 扩散法 计算机模拟 铁硅合金 薄带 |
| 收稿时间： | 1996-04-25 |
| 修稿时间： | 1996-04-25 |
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