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制备非晶硅合金薄膜的新技术—等离子体化学传输淀积法(PCTD)
作者姓名:吴汝麟  何宇亮  程光煦
作者单位:南京大学物理系,南京大学物理系,南京大学物理系
摘    要:等离子化学传输淀积[PCTD]法是我们设计的一种用来制备非晶态硅合金膜的新法。利用从气体源产生的等离子体中的活性元素,在腐蚀区腐蚀多晶硅或多晶硅加掺杂料。腐蚀后的产物由于气流和电场的作用,传输到淀积区与衬底表面起反应淀积出非品硅合金膜。用此法也能淀积出非晶态砷化镓薄膜。

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