| 自偏压对含氢非晶碳膜光学特性的影响 |
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| 引用本文： | 蔺增,巴德纯,王凤,李明.自偏压对含氢非晶碳膜光学特性的影响[J].真空科学与技术学报,2007,27(4):350-353. |
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| 作者姓名： | 蔺增 巴德纯 王凤 李明 |
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| 作者单位： | 1. 东北大学,沈阳,110004;塑性成形模拟及模具技术国家重点实验室,武汉,430074
2. 东北大学,沈阳,110004 |
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| 基金项目： | 辽宁省沈阳市科技计划;国家重点实验室基金 |
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| 摘 要： | 利用射频等离子体增强化学气相沉积（RFPECVD）方法，以CH4、Ar和H2为气源，在CR-39树脂材料上制备出了含氢非晶碳膜（a-C：H膜）。研究了不同偏压对a-C：H膜生长过程和光学特性的影响。使用激光拉曼光谱（Raman）和傅里叶变换红外光谱（FTIR）对样品的结构和成分进行了表征，分别使用纳米压痕仪和紫外-可见光分光光度计测试了样品的机械和光学特性。结果表明，自偏压对a-C：H膜的生长具有重要影响。随着自偏压的升高，所沉积a-C：H膜中的sp^3含量降低，薄膜的硬度和光学透过率也下降。
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| 关 键 词： | 含氢非晶碳膜 等离子体增强化学气相沉积 自偏压 光学特性 |
| 文章编号： | 1672-7126（2007）04-350-04 |
| 修稿时间： | 2006-04-14 |
Self-Bias Voltage and Optical Property of Hydrogenated Amorphous Carbon Films |
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| Lin Zeng,Ba Dechun,Wang Feng,Li Ming.Self-Bias Voltage and Optical Property of Hydrogenated Amorphous Carbon Films[J].JOurnal of Vacuum Science and Technology,2007,27(4):350-353. |
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| Authors: | Lin Zeng Ba Dechun Wang Feng Li Ming |
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| Abstract: | |
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| Keywords: | Hydrogenated amorphous carbon film Plasma enhanced chemical vapor deposition Self-bias voltage Optical property |
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