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用调制光谱研究半导体体材料及微结构的非线性极化率
作者姓名:王若桢  田强  江德生
作者单位:北京师范大学物理系!北京100875(王若桢,田强),中国科学院半导体研究所半导体超晶格国家重点实验室!北京100083(江德生)
摘    要:提出了用调制光谱信号强度表征半导体体材料及微结构的非线性极化率,研究了测量的原理和方法.对玻璃中量子点电反射调制光谱信号强度随团簇颗粒尺寸的不同而产生几个数量级变化的原因作出了解释

关 键 词:极化率   半导体微结构   调制光谱
文章编号:0253-4177(2000)01-0089-04
修稿时间:1998-07-10
本文献已被 CNKI 维普 万方数据 等数据库收录!
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