首页 | 本学科首页   官方微博 | 高级检索  
     

硫酸-甲醇体系钨电解抛光的可行性研究
引用本文:宋萍,邢丕峰,谌家军,李朝阳,谢军.硫酸-甲醇体系钨电解抛光的可行性研究[J].电镀与涂饰,2009,28(3).
作者姓名:宋萍  邢丕峰  谌家军  李朝阳  谢军
作者单位:1. 西华师范大学物理与电子信息学院,四川,南充,637002;中国工程物理研究院激光聚变研究中心,四川,绵阳,621900
2. 中国工程物理研究院激光聚变研究中心,四川,绵阳,621900
3. 西华师范大学物理与电子信息学院,四川,南充,637002
基金项目:国家高技术研究发展计划(863计划) 
摘    要:以硫酸-甲醇酸性体系作为电解液,对钨箔进行电解抛光研究.抛光后钨的表面均方根粗糙度和反射率的测试结果表明,该体系完全适用于金属钨的电化学抛光,对钨的阳极溶解行为进行了分析,讨论了溶液组成、槽电压、温度和搅拌速率对电抛光后钨表面粗糙度的影响.初步确定了金属钨电解抛光的工艺参数为:硫酸与甲醇的体积比1:7,槽电压15~22V,温度15~25℃,搅拌速率10m/s.

关 键 词:  电解抛光  表面粗糙度  反射率

Feasibility of tungsten electropolishing in sulfuric acid-methanol electrolyte
SONG Ping,XING Pi-feng,CHEN Jia-jun,LI Chao-yang,XIE Jun.Feasibility of tungsten electropolishing in sulfuric acid-methanol electrolyte[J].Electroplating & Finishing,2009,28(3).
Authors:SONG Ping  XING Pi-feng  CHEN Jia-jun  LI Chao-yang  XIE Jun
Abstract:
Keywords:
本文献已被 维普 万方数据 等数据库收录!
设为首页 | 免责声明 | 关于勤云 | 加入收藏

Copyright©北京勤云科技发展有限公司  京ICP备09084417号