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化学气相沉积法制备TiC涂层的相组成和表面形貌
引用本文:舒武炳,郭海明,乔生儒,孟国文,田长生. 化学气相沉积法制备TiC涂层的相组成和表面形貌[J]. 西北工业大学学报, 2000, 18(2): 229-232
作者姓名:舒武炳  郭海明  乔生儒  孟国文  田长生
作者单位:西北工业大学,材料科学与工程学院,陕西,西安,710072
基金项目:航空科学基金资助! ( 95G53 0 83)
摘    要:用化学气相沉积法在碳/碳复合材料表面沉积TiC涂层。研究了工艺参数对TiC涂层的相组成和表面形貌的影响以及CVD TiC涂层的沉积机理。实验结果表明,当进入沉积室的气体流量比为H2:TiCl4:CH4=300:25:10时,所得涂层中含较少的游离碳,TiC纯度较高。随CH4流量增加,游离碳含量增加。

关 键 词:化学气相沉积 TiC涂层 相组成
修稿时间:1998-06-08

Phase Composition and Surface Morphology of TiC Coating by Chemical Vapor Deposition
Shu Wubing,Guo Haiming,Qiao Shengru,Meng Guowen,Tian Changsheng. Phase Composition and Surface Morphology of TiC Coating by Chemical Vapor Deposition[J]. Journal of Northwestern Polytechnical University, 2000, 18(2): 229-232
Authors:Shu Wubing  Guo Haiming  Qiao Shengru  Meng Guowen  Tian Changsheng
Abstract:
Keywords:chemical vapor deposition(CVD)   TiC coating   phase composition   surface morphology
本文献已被 CNKI 维普 万方数据 等数据库收录!
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