| 基于二次曝光切趾技术的光纤光栅边模抑制性能研究 |
| |
| 引用本文： | 吴霞,冉洋,刘伟平,熊松松. 基于二次曝光切趾技术的光纤光栅边模抑制性能研究[J]. 仪表技术与传感器, 2010, 0(5) |
| |
| 作者姓名： | 吴霞 冉洋 刘伟平 熊松松 |
| |
| 作者单位： | 暨南大学电子工程系,广东广州,510632;广东省高等学校光电信息与传感技术重点实验室,暨南大学,广东广州,510632 |
| |
| 基金项目： | 广东省科技计划项目，广东省教育部产学研结合项目 |
| |
| 摘 要： | 介绍了通过二次曝光来获取折射率直流分量的方法从而达到光纤光栅(FBG)反射谱切趾效果.在与基于不同的变迹光束所获得单次曝光切趾光纤光栅反射谱的横向比较和分析后,表明二次曝光切趾技术(二次切趾)的光纤光栅在反射谱边模以及带宽抑制性能上具有更加优良的效果.为二次切趾光纤光栅应用于密集波分复用系统中提供了理论根据和有益的参考.
|
| 关 键 词： | 布拉格光纤光栅 边模抑制 二次曝光切趾 |
Research on Performance of FBG Sidelobes Supression Based on Double-exposure Apodizing Technology |
| |
| WU Xia,RAN Yang,LIU Wei-ping,XIONG Song-song. Research on Performance of FBG Sidelobes Supression Based on Double-exposure Apodizing Technology[J]. Instrument Technique and Sensor, 2010, 0(5) |
| |
| Authors: | WU Xia RAN Yang LIU Wei-ping XIONG Song-song |
| |
| Abstract: | |
| |
| Keywords: | |
| 本文献已被 万方数据 等数据库收录！ |
|
