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| 薄膜的离子束辅助淀积及离子轰击后处理工艺研究 | |
| 作者姓名： | 陈兴一 |
| 作者单位： | 天津光电技术研究所 |
| 摘 要： | 本文详述了离子束辅助淀积薄膜及离子轰击后处理薄膜的工艺装置。用新一代的离子源系统作为离子轰击源,e型电子枪为膜料的热蒸发源。首先进行离子辅助淀积工艺研究。用离子辅助淀积和常规淀积方法制备ZnS/MgF_215层(HL)~4(LH)~4单半波窄带滤光片。两种样品镀制后立即进行测试其曲线和放置18天后 |
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