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水化学对Zr-4合金氧化膜/基体界面处压应力的影响
引用本文:刘文庆,李强,周邦新,姚美意.水化学对Zr-4合金氧化膜/基体界面处压应力的影响[J].稀有金属材料与工程,2004,33(10):1112-1115.
作者姓名:刘文庆  李强  周邦新  姚美意
作者单位:上海大学材料研究所,上海,200072
基金项目:国家自然科学基金资助项目(5017103950301009),上海市教委科学技术发展基金资助项目(03AK24)
摘    要:测量和比较Zr-4合金样品分别在400℃,10.3MPa过热水蒸汽,0.01mol/L和0.04mol/L的LiOH水溶液中腐蚀后氧化膜/金属界面处氧化膜内的压应力,发现在0.04mol/L LiOH水溶液中腐蚀样品的压应力始终低于在0.01mol/L LiOH水溶液中腐蚀的样品,也始终低于在400℃水蒸汽中腐蚀的样品;0.01mol/L LiOH水溶液中腐蚀的样品,其界面处的压应力在氧化膜达到一定厚度后也低于在400℃水蒸汽中腐蚀的样品。这表明一定浓度的LiOH水溶液在氧化膜生成过程中会降低氧化膜中的压应力,LiOH水溶液浓度越高,这种作用越明显。

关 键 词:水化学  Zr-4合金  压应力
文章编号:1002-185X(2004)10-1112-04
修稿时间:2003年5月7日

The Effect of Water Chemistry on Compressive Stress at Interface of Oxide/Matrix of Zircaloy-4
Liu Wenqing,Li Qiang,Zhou Bangxin,Yao Meiyi.The Effect of Water Chemistry on Compressive Stress at Interface of Oxide/Matrix of Zircaloy-4[J].Rare Metal Materials and Engineering,2004,33(10):1112-1115.
Authors:Liu Wenqing  Li Qiang  Zhou Bangxin  Yao Meiyi
Abstract:
Keywords:water chemistry  Zircaloy-4  compressive stress
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