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评价任意面型微光学元件制作误差的方法
引用本文:高洪涛,杜春雷,张雨东.评价任意面型微光学元件制作误差的方法[J].微细加工技术,2007(4):27-29.
作者姓名:高洪涛  杜春雷  张雨东
作者单位:1. 中国科学院光电技术研究所微细加工光学技术国家重点实验室,成都610209;中国科学院研究生院,北京,100039
2. 中国科学院光电技术研究所微细加工光学技术国家重点实验室,成都,610209
3. 中国科学院光电技术研究所,成都,610209
摘    要:提出一种可用于评价任意面型微光学元件制作误差的方法.利用泽尼克多项式描述微光学元件面型,针对元件检测过程中的旋转对准偏差,给出泽尼克系数随旋转角度的变化关系;以设计面型和实测面型之间的均方根偏差(RMS)为加工误差的评价指标,根据其相对于旋转角度的依赖曲线,最小的RMS即是加工误差.数值模拟结果表明,该方法可以将旋转对准偏差矫正,从而有效地评价了制作误差.该方法可应用于任意面型微光学元件的研制.

关 键 词:微光学元件  制作误差  泽尼克多项式  任意表面
文章编号:1003-8213(2007)04-0027-03
修稿时间:2007年2月27日

Evaluating Method of Fabrication Error of Micro-optical Elements with Arbitrary Profiles
GAO Hong-tao,DU Chun-lei,ZHANG Yu-dong.Evaluating Method of Fabrication Error of Micro-optical Elements with Arbitrary Profiles[J].Microfabrication Technology,2007(4):27-29.
Authors:GAO Hong-tao  DU Chun-lei  ZHANG Yu-dong
Abstract:
Keywords:
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