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| 磁控溅射法制备氮化碳薄膜的研究进展 | |
| 引用本文： | 陈春,刘军,毕凯,陈志刚,李忠学,张兴国. 磁控溅射法制备氮化碳薄膜的研究进展[J]. 材料导报, 2005, 19(Z1): 372-374 |
| 作者姓名： | 陈春 刘军 毕凯 陈志刚 李忠学 张兴国 |
| 作者单位： | 1. 江苏大学材料学院,镇江,212013 2. 镇江船艇学院,镇江,212003 3. 江苏工业学院,常州,213100 |
| 摘 要： | 简要评述了磁控溅射法制备氮化碳(CNx)薄膜的研究进展的现状,以及磁控溅射法制备氮化碳(CNx)薄膜过程中工艺参数对薄膜的结构和性能的影响,展望了氮化碳研究的发展趋势. |
| 关 键 词： | 磁控溅射 氮化碳 薄膜 |
Research Advance of Carbon Nitride Films by Magnetron Sputtering |
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| CHEN Chun,LIU Jun,BI Kai,CHEN Zhigang,LI Zhongxue,Zhang Xingguo. Research Advance of Carbon Nitride Films by Magnetron Sputtering[J]. Materials Review, 2005, 19(Z1): 372-374 | |
| Authors: | CHEN Chun LIU Jun BI Kai CHEN Zhigang LI Zhongxue Zhang Xingguo |
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