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射频磁控溅射GaP薄膜的光学性能
引用本文:郭大刚, 刘正堂, 宋健全, 耿东生. 射频磁控溅射GaP薄膜的光学性能[J]. 红外技术, 2002, 24(4): 49-52. DOI: 10.3969/j.issn.1001-8891.2002.04.013
作者姓名:郭大刚  刘正堂  宋健全  耿东生
作者单位:西北工业大学,材料科学与工程学院,陕西,西安,710072
基金项目:航空科学基金 (98G5 3 10 4),国防基础科研计划 (J15 0 0E0 0 2 )资助项目
摘    要:采用射频磁控溅射方法在ZnS衬底上制备了不同工艺参数下的GaP薄膜,并通过FTIR分析了工艺参数对GaP薄膜红外透过率的影响规律.利用优化后的工艺参数成功地制备了厚为10.5 μm的GaP膜,根据膜系设计结果制备了DLC/GaP膜系.实验表明,GaP厚膜与基体结合性能较好,光学性能亦有所改善;DLC/GaP膜系的红外增透效果良好,在8~11.5 μm波段平均透过率净增5.69%,足以满足8~11.5 μm增透要求.

关 键 词:GaP薄膜  射频磁控溅射  红外增透保护膜系  ZnS衬底
文章编号:1001-8891(2002)04-0049-04
修稿时间:2001-10-08

Optical Properties of Gap Film Prepared by RF Magnetron Sputtering
Optical Properties of Gap Film Prepared by RF Magnetron Sputtering[J]. Infrared Technology , 2002, 24(4): 49-52. DOI: 10.3969/j.issn.1001-8891.2002.04.013
Authors:GUO Da gang  LIU Zheng tang  SONG Jian quan  GENG Dong sheng
Abstract:
Keywords:RF magnetron sputtering  GaP films  Infrared anti reflective protective film  ZnS substrate
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