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一种新型溅射系统中的电子反射镜对放电特性的影响
作者姓名:刘维一 李育民
作者单位:南开大学电子科学系 天津市300071(刘维一),南开大学电子科学系 天津市300071(李育民)
摘    要:本文对一种带有电子反射镜的溅射系统的放电特性进行了研究.并对几种不同形状的电子反射镜进行了研究比较。从中看到,圆筒形反射镜中心部分对电子的反射能力较弱,电子和离子容易逃离放电空间而影响等离子体的密度,并造成靶面刻蚀不均匀;同心圆筒型反射镜提高了中心部分反射电子的能力,明显提高了等离子体的密度,并使靶面刻蚀情况得到了改善;栅网型与盘香型反射镜都对电子有较强的反射能力,并能获得较高密度的等离子体;靶面刻蚀均匀。是比较理想的电子反射镜。由靶到电子反射镜之间的距离与靶的直径之比为1:1时,可以获得较高的放电电流。距离过大或过小都对放电不利。另外,磁场强对放电有很大影响,磁场强度的减弱会造成放电电流急剧下降。 由于此系统的磁力线与靶面垂直,所以对磁性材料与非磁性材料都能溅射。

关 键 词:溅射系统 电子反射镜 放电 镀膜
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