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| IBM宣布22nm半导体光刻制造工艺 | |
| 引用本文： | 吴琪乐.IBM宣布22nm半导体光刻制造工艺[J].半导体信息,2012(4). |
| 作者姓名： | 吴琪乐 |
| 摘 要： | 正IBM日前宣布了能够支持22 nm制程的全套半导体光刻制造工艺解决方案,能够在继续使用当前光刻技术的前提下,满足今起直至2012年前后半导体工业对制程进化的工艺需求。IBM的新技术为"运算微缩"(Computation Scaling,CS)技术,能够在不提升光刻激光波长的前提下提升制程。IBM半导体研发中心副总裁Gary Patton认为,传统的微缩投影技术过于依赖设备的光学分辨率,而"运算微缩"技术则 |
| 关 键 词： | 半导体光刻 制造工艺 解决方案 宣布 制程 半导体工业 前提 微缩 新技术 需求 |
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