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熔融铈快速抛光CVD金刚石厚膜及表面分析
引用本文:孙玉静,王树彬,田莳. 熔融铈快速抛光CVD金刚石厚膜及表面分析[J]. 功能材料, 2007, 38(2): 326-329
作者姓名:孙玉静  王树彬  田莳
作者单位:北京航空航天大学,材料科学与工程学院,北京,100083;北京航空航天大学,材料科学与工程学院,北京,100083;北京航空航天大学,材料科学与工程学院,北京,100083
摘    要:利用熔融稀土铈(Ce)对CVD金刚石厚膜进行了抛光研究.详细讨论了工艺参数对抛光速率和表面粗糙度Ra的影响,获得了最佳抛光工艺.通过对抛光后金刚石膜表面的拉曼光谱(Raman)、俄歇能谱(AES)、扫描电镜(SEM)以及能谱(EDS)的分析,探讨了抛光机理.结果表明:该方法有很高的抛光速率,可达每小时数百微米.抛光后金刚石膜的Ra从10.845μm降低至0.6553μm.抛光的热处理工艺不但没有破坏金刚石表面的原始结构,而且由于铈对石墨的优先刻蚀,抛光后金刚石膜表面的石墨含量还大大减少.

关 键 词:CVD金刚石膜  熔融稀土  抛光
文章编号:1001-9731(2007)02-0326-04
修稿时间:2006-08-21

Study on the rapid polishing of CVD thick diamond films by molten cerium and surface analysis
SUN Yu-jing,WANG Shu-bin,TIAN Shi. Study on the rapid polishing of CVD thick diamond films by molten cerium and surface analysis[J]. Journal of Functional Materials, 2007, 38(2): 326-329
Authors:SUN Yu-jing  WANG Shu-bin  TIAN Shi
Affiliation:Sehool of Material Seienee and Engineering,Beijing University of Aeronauties and Astronauties,Beijing 100083,China
Abstract:
Keywords:CVD diamond film   molten rare earth   polishing
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