| 熔融铈快速抛光CVD金刚石厚膜及表面分析 |
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| 引用本文： | 孙玉静,王树彬,田莳. 熔融铈快速抛光CVD金刚石厚膜及表面分析[J]. 功能材料, 2007, 38(2): 326-329 |
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| 作者姓名： | 孙玉静 王树彬 田莳 |
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| 作者单位： | 北京航空航天大学,材料科学与工程学院,北京,100083;北京航空航天大学,材料科学与工程学院,北京,100083;北京航空航天大学,材料科学与工程学院,北京,100083 |
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| 摘 要： | 利用熔融稀土铈(Ce)对CVD金刚石厚膜进行了抛光研究.详细讨论了工艺参数对抛光速率和表面粗糙度Ra的影响,获得了最佳抛光工艺.通过对抛光后金刚石膜表面的拉曼光谱(Raman)、俄歇能谱(AES)、扫描电镜(SEM)以及能谱(EDS)的分析,探讨了抛光机理.结果表明:该方法有很高的抛光速率,可达每小时数百微米.抛光后金刚石膜的Ra从10.845μm降低至0.6553μm.抛光的热处理工艺不但没有破坏金刚石表面的原始结构,而且由于铈对石墨的优先刻蚀,抛光后金刚石膜表面的石墨含量还大大减少.
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| 关 键 词： | CVD金刚石膜 熔融稀土 抛光 |
| 文章编号： | 1001-9731(2007)02-0326-04 |
| 修稿时间： | 2006-08-21 |
Study on the rapid polishing of CVD thick diamond films by molten cerium and surface analysis |
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| SUN Yu-jing,WANG Shu-bin,TIAN Shi. Study on the rapid polishing of CVD thick diamond films by molten cerium and surface analysis[J]. Journal of Functional Materials, 2007, 38(2): 326-329 |
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| Authors: | SUN Yu-jing WANG Shu-bin TIAN Shi |
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| Affiliation: | Sehool of Material Seienee and Engineering,Beijing University of Aeronauties and Astronauties,Beijing 100083,China |
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| Abstract: | |
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| Keywords: | CVD diamond film molten rare earth polishing |
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