| 发展中的溅射靶材 |
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| 引用本文： | 吴丽君.发展中的溅射靶材[J].真空科学与技术学报,2001,21(4):342-347. |
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| 作者姓名： | 吴丽君 |
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| 作者单位： | 北京有色金属研究总院 |
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| 摘 要： | 作为制备和生产功能薄膜的方法之一,溅射法广泛应用于许多领域.它是目前制备金属薄膜最常用的工艺.作为高技术用的靶材是一种全新的概念.随着高技术用新材料突飞猛进的发展,世界靶材的市场销售规模日益扩大.本文重点介绍了靶材的发展概况、应用分类、制备工艺、技术要求以及中国靶材产业的发展前景等.
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| 关 键 词： | 溅射 靶材 功能薄膜 |
| 文章编号： | 0253-9748(2001)04-0342-06 |
| 修稿时间： | 2000年8月21日 |
Magnetron Sputtering Target Materials |
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| Wu Lijun.Magnetron Sputtering Target Materials[J].JOurnal of Vacuum Science and Technology,2001,21(4):342-347. |
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| Authors: | Wu Lijun |
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| Abstract: | Target Materials have great market demands because magnetron sputtering is a popular technique in the growth of functional films,metal films in particular.The latest development of target materials,including their classification,their preparation,and their quality requirements,as well as the future prospects of target materials industry,was reviewed. |
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| Keywords: | Sputtering Target Functional film |
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