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| 用激光制造电介质薄膜 | |
| 摘 要： | 用激光制造电介质薄膜的方法有多种,但大致可分化学的激光CVD(化学汽相淀积)法和物理的激光—剥离法两大类。本文以日本英贡等人的研究成果为中心,对上述两种方法作具体介绍。 1 用激光—CVD法制造氮化铝薄膜氮化铝(AlN)由于它具有高的导热性,热膨胀率与硅相同,耐腐蚀性优越等,最近成了受青睐的材料之一。在制造氮化铝薄膜时,通常利用MO |
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