| FePt薄膜氧化的电子显微学表征 |
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| 引用本文： | 胡学让,吴培文,袁俊.FePt薄膜氧化的电子显微学表征[J].电子显微学报,2005,24(2):85-90. |
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| 作者姓名： | 胡学让 吴培文 袁俊 |
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| 作者单位： | 清华大学材料科学与工程系,北京,100084 |
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| 基金项目： | 国家高技术研究发展计划(863计划) |
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| 摘 要： | 电子束蒸发沉淀法制备的Fe-Pt多层膜在N2氧气下经550℃退火可获得有序Llo-FePt相。截面样品形貌像表明退火600s的样品形成了双层结构，祥品选区电子衍射谱、X射线能谱及电子能量损失谱中O-K边吸收峰形状分析表明该样品的上层结构主要为尖晶石相Fe3O2的氧化产物，下层结构主要为有序Llo-FePt。由于Fe的选择性氧化造成FePt相的成分偏离设计要求，从而对FePt超薄膜的磁学性能产生很大影响。
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| 关 键 词： | 氧化 |
| 文章编号： | 1000-6281(2005)02-0085-06 |
Electron microscopy study on oxidation of the FePt thin film |
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| HU Xue-rang,WU Pei-wen,YUAN Jun.Electron microscopy study on oxidation of the FePt thin film[J].Journal of Chinese Electron Microscopy Society,2005,24(2):85-90. |
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| Authors: | HU Xue-rang WU Pei-wen YUAN Jun |
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| Abstract: | |
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| Keywords: | FePt Fe3O4 |
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