| LSI渗硼剂渗硼中硼的扩散激活能 |
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| 引用本文： | 贲永志,谌岩.LSI渗硼剂渗硼中硼的扩散激活能[J].物理测试,2000(5):14-15. |
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| 作者姓名： | 贲永志 谌岩 |
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| 作者单位： | 燕山大学,秦皇岛,066004 |
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| 摘 要： | 通过对４０钢经不同温度及时间渗硼后渗层层深的测定，根据公式ρ＾２＝Ｋ０ｔｅ＾－Ｑ／ＲＴ计算出硼的扩散激活能，为渗硼层形成机制的研究提供数据。
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| 关 键 词： | 渗硼剂 渗硼 扩散激活能 硼 |
| 修稿时间： | 1999年10月10 |
Activation Energy of Seeping Boron of LSI Adding Boron |
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| Ben Yongzhi,Chen Yan.Activation Energy of Seeping Boron of LSI Adding Boron[J].Physics Examination and Testing,2000(5):14-15. |
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| Authors: | Ben Yongzhi Chen Yan |
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| Abstract: | |
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| Keywords: | LSI adding boron seeping boron activation energy |
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