| CVD金刚石膜制备方法及其应用 |
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| 引用本文： | 戚学贵,陈则韶,陈莉. CVD金刚石膜制备方法及其应用[J]. 半导体技术, 2001, 26(6): 55-59 |
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| 作者姓名： | 戚学贵 陈则韶 陈莉 |
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| 作者单位： | 中国科学技术大学工程科学学院，安徽合肥 230027 |
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| 基金项目： | 国家自然科学基金;59976038; |
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| 摘 要： | 介绍了金刚石膜的应用和低压下化学汽相沉积金刚石膜的主要方法及其最新进展，并对各种方法的优缺点作了简要评述。
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| 关 键 词： | 金刚石膜 化学汽相沉积 热丝 等离子体 |
| 文章编号： | 1003-353X(2001)06-0055-05 |
| 修稿时间： | 2000-10-13 |
Synthesis and application of CVD diamond films |
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| QI Xue-gui,CHEN Ze-shao,CHEN Li. Synthesis and application of CVD diamond films[J]. Semiconductor Technology, 2001, 26(6): 55-59 |
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| Authors: | QI Xue-gui CHEN Ze-shao CHEN Li |
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| Abstract: | The paper reviews the application of diamond films and the methods used for chemical vapor deposition diamond films at low pressure. The advantages and disadvantages of these methods are also discussed respectively. |
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| Keywords: | diamond film CVD hot-filament plasma |
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