| 偏压对磁控溅射沉积铌膜表面性能的影响 |
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| 引用本文： | 崔江涛,田修波,杨士勤.偏压对磁控溅射沉积铌膜表面性能的影响[J].真空科学与技术学报,2008,28(1):67-71. |
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| 作者姓名： | 崔江涛 田修波 杨士勤 |
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| 作者单位： | 1. 哈尔滨工业大学现代焊接生产技术国家重点实验室,材料科学与工程学院,哈尔滨,150001
2. 哈尔滨工业大学现代焊接生产技术国家重点实验室,材料科学与工程学院,哈尔滨,150001;深圳市复合材料重点实验室,深圳国际技术创新研究院,深圳,518057 |
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| 基金项目： | 国家自然科学基金
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教育部跨世纪优秀人才培养计划
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哈尔滨科学后备带头人基金 |
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| 摘 要： | 利用直流磁控溅射在钢基体上沉积了铌薄膜，分别采用扫描电镜、原子力显微镜、X射线衍射仪和电化学分析仪研究了不同偏压下铌膜表面形貌、相结构以及耐蚀性。实验结果表明：在低于300V偏压下，偏压的变化并没有使得铌膜的晶体结构发生改变，但对铌膜的表面形貌影响很大。随着偏压的提高，Nb膜表面先变得平坦，晶粒细小致密，孔隙减少；偏压升到300V时，晶粒粗大，膜层变得疏松。偏压的增大使得铌膜的显微硬度和结合力相应提高。150V偏压下沉积得到的铌膜耐蚀性最为出色，这主要缘于其较低的孔隙率和高的膜基结合力。
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| 关 键 词： | 偏压 铌膜 结构 耐蚀性 偏压 磁控 溅射沉积 膜表面性能 影响 Films Niobium Magnetron Properties Voltage 膜基结合力 孔隙率 显微硬度 大使 疏松 膜层 晶粒粗大 晶粒细 膜表面形貌 发生 |
| 文章编号： | 1672-7126（2008）01-067-05 |
| 收稿时间： | 2007-04-10 |
| 修稿时间： | 2007年4月10日 |
Bias Voltage and Properties of Magnetron Sputtered Niobium Films |
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| Cui Jiangtao,Tian Xiubo,Yang Shiqin.Bias Voltage and Properties of Magnetron Sputtered Niobium Films[J].JOurnal of Vacuum Science and Technology,2008,28(1):67-71. |
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| Authors: | Cui Jiangtao Tian Xiubo Yang Shiqin |
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| Abstract: | |
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| Keywords: | Bias voltage Niobium film Structure Corrosion resistance |
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