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金刚石多晶薄膜和硅异质结研究
作者姓名:周方斌 张亚增
作者单位:安徽师范大学物理系
摘    要:采用热丝法,甲醇、丙酮及氢气等离子体在硅衬底上沉积出金刚石薄膜,用透射电镜及拉曼谱分析膜中含有大小不等的金刚石颗粒,膜的厚度为50-100nm。C/Si异质结I-V曲线具有二极管整流特性,可耐高压,击穿场强达10^7V/cm。

关 键 词:金刚石薄膜 异质结 整流 硅异质结
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