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移相腌模应用技术
作者姓名:贾海强 张玉清
摘    要:一种用于大栅宽器件的移相掩膜应用技术是将移相器边缘线用作不透明掩膜,以代替铬图形。利用此移相掩膜技术,制作了特殊线长为0.15μm的微细栅条和大栅宽器件。

关 键 词:亚半微米 移相掩膜 半导体集成电路 应用
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