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| HT-7超导托卡马克第1壁B/C膜吸O性研究 | |
| 作者姓名： | 方应翠 张晓东 辜学茂 王小明 何也熙 李成富 |
| 作者单位： | 1. 合肥工业大学机械与汽车学院 2. 中国科学院等离子体物理研究所 |
| 摘 要： | 通常在托卡马克第1壁沉积1层B膜，以降低托卡马克等离子体的O杂质。在HT-7第1壁位置处放了几个石墨样品，它们与HT-7一起硼化。硼化后取出部分样品膜，剩余样品留在真空室接受聚变等离子体的轰击。对鲜膜和轰击膜进行XPS分析，发现在成膜过程中B膜开始吸O；等离子体轰击时，B膜进一步吸O。O在膜中与B以化合态B2O3形式存在。并对实际中存在的一些问题进行了探讨。 |
| 关 键 词： | B/C膜 第1壁 吸氧性 |
| 文章编号： | 0253-9748(2001)03-0223-03 |
| 修稿时间： | 2000-07-10 |
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