|
|||||
|
|
| 微电子学、集成电路 | |
| 摘 要： | TN4 95060605关于我国集成电路技术产业化的若干问题(续)二、集成电路技术产业化基本概念和评价指标/许居衍11 LSI制造与测试一1995,16(2)一7~11 文章接上期介绍了IC技术产业化的一些理论依据、基本概念、IC产业结构和研究范围以及产业化考察域.并阐述了IC技术产业化评价指标体系.表《南)优质膜的成膜技术,并建立了直接磁控溅射淀积速率的模型;还研究了微细加工形成超导薄膜导线的薄膜成形技术;着重研究了超导导线与高速集成电路的连接工艺.图3参9(文)TN4,TN一1 .95060606关于我国集成电路技术产业化的若干问题(续)三、我国集成电路产… |
| 本文献已被 CNKI 等数据库收录！ | |