| 石英衬底上溅射制备纳米SiCN薄膜 |
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| 引用本文： | 林洪峰,谢二庆,张军,颜小琴,陈支勇. 石英衬底上溅射制备纳米SiCN薄膜[J]. 半导体学报, 2006, 27(z1): 124-126 |
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| 作者姓名： | 林洪峰 谢二庆 张军 颜小琴 陈支勇 |
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| 作者单位： | 兰州大学物理科学与技术学院,兰州,730000;兰州大学物理科学与技术学院,兰州,730000;兰州大学物理科学与技术学院,兰州,730000;兰州大学物理科学与技术学院,兰州,730000;兰州大学物理科学与技术学院,兰州,730000 |
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| 摘 要： | 利用射频溅射方法在石英玻璃上沉积了纳米结构硅碳氮(SiCN)薄膜.SiCN薄膜表面由平均直径约50nm的SiCN纳米颗粒组成,这些纳米颗粒的紧密分布构造了薄膜的致密表面.纳米SiCN薄膜呈现出典型的半导体导电特征.通过调整N2流量参数可以获得不同带隙的SiCN薄膜材料,这种带隙可调的纳米结构SiCN薄膜在未来的半导体光电器件应用领域会有广阔的应用前景.
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| 关 键 词： | 溅射 纳米SiCN 薄膜 |
| 文章编号： | 0253-4177(2006)S0-0124-03 |
| 修稿时间： | 2005-10-27 |
Deposition of SiCN Nano-Films by Sputtering Method on Quartz Substrate |
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| Lin Hongfeng,Xie Erqing,Zhang Jun,Yan Xiaoqin,Chen Zhiyong. Deposition of SiCN Nano-Films by Sputtering Method on Quartz Substrate[J]. Chinese Journal of Semiconductors, 2006, 27(z1): 124-126 |
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| Authors: | Lin Hongfeng Xie Erqing Zhang Jun Yan Xiaoqin Chen Zhiyong |
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