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MBE/FW-Ⅲ型分子束外延设备
摘    要:<正> 封面照片为MBE/FW—Ⅲ型分子束外延炉,是由中国科学院沈阳科学仪器厂与物理研究所联合研制的新型分子束外延装置。该设备采用了三室结构、空气闭锁换样、水平束源与炉温和快门计算机控制等新结构。外延生长室的真空度优于2×10~(-10)mmHg,可进行2英寸大片的Ⅲ—Ⅴ族化合物多层异质结材料生长。使用该设备生长的调制掺杂AlGaAs/GaAs的

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