| 化学发光法测定超痕量锇 |
| |
| 引用本文： | 宋正华,苏文杰,刘秦茵. 化学发光法测定超痕量锇[J]. 工业催化, 1996, 0(4) |
| |
| 作者姓名： | 宋正华 苏文杰 刘秦茵 |
| |
| 作者单位： | 西北大学分析测试研究中心，陕西省气象局 |
| |
| 摘 要： | 本文提出一种新的高灵敏度测定锇的化学发光方法，检测下限可达ｌ．８×１０－１４ｇ／ｍｌ，对１．０×１０－３３ｇ／ｍｌ锇（Ⅷ）进行１３次平行测定，相对标准偏差为４．２％。发光强度与用浓度在３．３×１０－１５ｇ／ｍｌ～１．３×１０－９ｇ／ｍｌ范围内呈线性关系。本法操作简单，重现性好，灵敏度高，是测定超痕量用的─种有效方法。
|
| 关 键 词： | 化学发光，测定，锇，催化 |
Determination of Trace Osmium by Chemilumiuescence Analysis |
| |
| Song Zhenghua, Su Wenjie. Determination of Trace Osmium by Chemilumiuescence Analysis[J]. Industrial Catalysis, 1996, 0(4) |
| |
| Authors: | Song Zhenghua Su Wenjie |
| |
| Abstract: | |
| |
| Keywords: | Chemiluminescence determination trace osnium catalytic reaction |
| 本文献已被 CNKI 等数据库收录！ |
|
