ZnO∶Nb透明导电薄膜的制备及光电特性研究 |
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作者姓名: | 周爱萍 刘汉法 臧永丽 |
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作者单位: | 山东理工大学理学院,山东淄博,255049 |
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基金项目: | 山东省自然科学基金资助项目(ZR2009GQ011) |
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摘 要: | 采用直流磁控溅射法在玻璃衬底上沉积铌掺杂氧化锌(NZO)透明导电薄膜。通过X射线衍射(XRD)、扫描电镜(SEM)以及透射光谱等测试研究了溅射功率对薄膜结构、形貌以及光电性能的影响。实验结果表明NZO薄膜是多晶膜,具有ZnO的六角纤锌矿结构,最佳取向为(002)方向。溅射功率从40W增加到80W时,薄膜的电阻率迅速下降;功率超过80W时,电阻率趋于平稳。在溅射功率为100W时,电阻率具有最小值5.89×10-4Ω.cm,光学带隙具有最大值3.395eV。实验制备的NZO薄膜附着性能良好,在可见光范围内的平均透过率均超过86.6%。
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关 键 词: | ZnO∶Nb薄膜 溅射功率 透明导电薄膜 磁控溅射 |
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