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| 基底结构对纳米铜膜光电性能影响 | |
| 引用本文： | 孟灵灵,魏取福,黄新民. 基底结构对纳米铜膜光电性能影响[J]. 功能材料, 2013, 44(6): 822-825,830 |
| 作者姓名： | 孟灵灵 魏取福 黄新民 |
| 作者单位： | 1. 盐城工学院纺织服装学院,江苏盐城224051;江南大学生态纺织教育部重点实验室,江苏无锡214122 2. 盐城工学院纺织服装学院,江苏盐城,224051 3. 江南大学生态纺织教育部重点实验室,江苏无锡,214122 |
| 基金项目： | 国家高技术研究发展计划(863计划)资助项目(2012AA030313);教育部长江学者和创新团队发展计划资助项目(IRT1135) |
| 摘 要： | 采用射频磁控溅射法,在涤纶机织布、纺粘非织造布、针织布、纤维膜表面沉积纳米铜薄膜,并用紫外-可见分光光度计与四探针测试仪测试样品透光和导电性能,用彩色摄像机观察溅射样品的表面形貌,用毛管流动孔隙仪测试不同基底孔隙大小及分布,并对结果进行比较分析。结果表明,基底布表面结构形貌与孔隙大小对样品光透射率、导电性能均产生影响。随基底布孔隙率的增加,样品透射率提高,导电性能减弱,针织布由于其松散的线圈结构使得其表面电阻难以测知。 |
| 关 键 词： | 磁控溅射 纳米铜膜 透光性能 导电性能 |
Influence of substrate structure on photoelectricity of copper film prepared by magnetron sputtering |
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| MENG Ling-ling , WEI Qu-fu , HUANG Xin-min. Influence of substrate structure on photoelectricity of copper film prepared by magnetron sputtering[J]. Journal of Functional Materials, 2013, 44(6): 822-825,830 | |
| Authors: | MENG Ling-ling WEI Qu-fu HUANG Xin-min |
| Affiliation: | 1.College of Textile & Clothing,Yancheng Institute of Technology,Yancheng 224051,China;2.Key Laboratory of Eco-Textile,Ministry of Education,Jiangnan University,Wuxi 214122,China) |
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