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调制掺杂AlxGa1-xN/GaN异质结中AlxGa1-xN势垒层表面态及其他局域态性质研究
引用本文:刘杰 沈波 周玉刚 周慧梅 郑泽伟 张荣 施毅. 调制掺杂AlxGa1-xN/GaN异质结中AlxGa1-xN势垒层表面态及其他局域态性质研究[J]. 半导体学报, 2003, 24(8): 822-826
作者姓名:刘杰 沈波 周玉刚 周慧梅 郑泽伟 张荣 施毅
作者单位:南京大学物理系,南京210093
基金项目:国家重点基础研究发展计划(973计划);G20000683;
摘    要:通过测量调制掺杂Al0.22Ga0.78N/GaN异质结样品的变频电容-电压(C-V)特性,对Al0.22Ga0.78N势垒层表面态的性质进行了研究.结果发现在小偏压下,样品的电容随着测量信号频率的增加而下降,说明势垒层中存在表面态.实验数据分析表明:表面态密度约为10^13cm^-2量级,表面态的时间常数比势垒层中其他局域态大.随着空间隔离层厚度的增加,势垒层中其他局域态密度随之增加.在金属电极和Al0.22Ga0.78N势垒层之间加入Si3N4绝缘层可以对表面态起到显的钝化作用,使表面态密度降为~10^12cm^-2量级.

关 键 词:Ⅲ族氮化物 调制掺杂异质结构 势垒层 表面态
文章编号:0253-4177(2003)08-0822-05
修稿时间:2002-09-27

Surface States and Other Local States in AlxGa1-xN Barriers of Modulation-Doped AlxGa1-xN/GaN Heterosturctures
Liu Jie,Shen Bo,Zhou Yugang,Zhou Huimin,Zheng Zewei,Zhang Rong,Shi Yi and Zheng Youdou. Surface States and Other Local States in AlxGa1-xN Barriers of Modulation-Doped AlxGa1-xN/GaN Heterosturctures[J]. Chinese Journal of Semiconductors, 2003, 24(8): 822-826
Authors:Liu Jie  Shen Bo  Zhou Yugang  Zhou Huimin  Zheng Zewei  Zhang Rong  Shi Yi  Zheng Youdou
Abstract:
Keywords:
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