| 衬底温度对Ta2O5薄膜结构和光学性质的影响 |
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| 引用本文： | 马亚林,石 健,李绪诚,杨利忠,邓朝勇.衬底温度对Ta2O5薄膜结构和光学性质的影响[J].功能材料,2013(21). |
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| 作者姓名： | 马亚林 石 健 李绪诚 杨利忠 邓朝勇 |
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| 作者单位： | (贵州大学 理学院电子科学技术系;贵州 贵阳550025) |
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| 基金项目： | 贵 州 省科 技计 划资 助 项目 (2012-3005,2010-4005,2009-15,2011-2016,2011-2104);贵 阳 市 科 技 计 划 资 助 项 目(2012101-2-4) |
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| 摘 要： | 采用直流磁控溅射法在不同衬底温度下(27、150、300、450和750℃)制备Ta2O5薄膜。利用X射线衍射、扫描电子显微镜(SEM)和紫外-可见光分光光度计对薄膜的结构、表面形貌和光学性质进行分析研究。实验结果表明,当衬底温度450℃时,薄膜开始结晶。低于450℃,薄膜为无定形态,光学透过率随着衬底温度的升高而升高,在可见光区域最大透过率为85%。薄膜结晶生成晶粒,会对通过的光束产生散射,降低透过率,光学性能下降。这些结果说明衬底温度和薄膜材料的结构、结晶转变温度及光学性质密切相关。
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| 关 键 词： | 磁控溅射 Ta2O5 光学薄膜 结晶 透过率 |
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