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杂志ISSN号
ATE应对90nm及以下节点良率问题
作者姓名:
Sally
Cole
Johnson
摘 要:
正如2007版国际半导体技术蓝图(ITRS)所提到的,自动测试设备(ATE)所面临的最紧迫的技术挑战便是“促进良率提高的测试”,特别是对于90、65、45nm和未来工艺节点上的晶圆工艺和器件良率学习。
关 键 词:
下节点
ATE
自动测试设备
半导体技术
工艺
学习
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