首页 | 本学科首页   官方微博 | 高级检索  
     

掺杂GaAs单晶中位错的腐蚀观察与探讨
引用本文:李玉增,王海涛,章新望.掺杂GaAs单晶中位错的腐蚀观察与探讨[J].稀有金属,1982(4).
作者姓名:李玉增  王海涛  章新望
作者单位:冶金工业部有色金属研究总院,冶金工业部有色金属研究总院,冶金工业部有色金属研究总院
摘    要:本文阐述水平三温区炉生长的掺杂(Si,Te或Cr)GaAs中位错的腐蚀观察工艺和基本原理。详细探讨了由化学腐蚀所获得的一些结果,诸如位错坑,浅坑或碟坑,沉淀物和夹杂等。

本文献已被 CNKI 等数据库收录!
设为首页 | 免责声明 | 关于勤云 | 加入收藏

Copyright©北京勤云科技发展有限公司  京ICP备09084417号