| 热压印光刻技术复制波带片图形研究 |
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| 引用本文： | 范东升,王德强,康晓辉,陈大鹏,谢常青.热压印光刻技术复制波带片图形研究[J].微细加工技术,2005(3):27-30. |
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| 作者姓名： | 范东升 王德强 康晓辉 陈大鹏 谢常青 |
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| 作者单位： | 中国科学院微电子研究所,纳米加工与新器件集成实验室,北京,100029 |
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| 基金项目： | 国家自然科学基金资助项目（60236010）;973资助项目（G200036504） |
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| 摘 要： | 针对只需单次曝光的菲涅尔波带片器件,给出了结合电子束光刻和热压印光刻进行大规模复制的完整工艺路线,即首先采用电子束光刻制作热压印模版,之后用热压印光刻进行波带片的大规模复制,所制得的波带片图形的最外环宽度为250 nm,直径为196μm,环数为196环.初步实验结果表明,这种方法具有很好的重复性和易用性,且可以进行低成本波带片的精确复制.
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| 关 键 词： | 波带片 纳米压印 热压印 |
| 文章编号： | 1003-8213（2005）03-0027-04 |
| 收稿时间： | 2005-05-26 |
| 修稿时间： | 2005-06-15 |
Study on Zone Plate Replication Using Hot Embossing Lithography Technology |
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| FAN Dong-sheng,WANG De-qiang, KANG Xiao-hui, CHEN Da-peng,XIE Chang-qing.Study on Zone Plate Replication Using Hot Embossing Lithography Technology[J].Microfabrication Technology,2005(3):27-30. |
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| Authors: | FAN Dong-sheng WANG De-qiang KANG Xiao-hui CHEN Da-peng XIE Chang-qing |
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| Affiliation: | Key Laboratory of Nano-Fabrieation and Novel Devices Integrated Technology, Institute of Microelectronics, The Chinese Academy of Sciences, Beijing 100029, China |
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| Abstract: | |
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| Keywords: | zone plate nanoimprint hot embossing |
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