| CVD在铱涂层和薄膜制备中的应用 |
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| 引用本文： | 胡昌义,李靖华,高逸群,邓德国,尹志民. CVD在铱涂层和薄膜制备中的应用[J]. 贵金属, 2002, 23(1): 53-56 |
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| 作者姓名： | 胡昌义 李靖华 高逸群 邓德国 尹志民 |
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| 作者单位： | 1. 贵研铂业股份有限公司,中国昆明,650221
2. 中南工业大学,中国长沙,410083 |
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| 基金项目： | 云南省自然科学基金资助项目 (2 0 0 0E0 0 85M ) |
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| 摘 要： | 简要介绍化学气相沉积（CVD）技术的一般原理，评述CVD在贵金属铱涂层和薄膜制备方面的应用状况，主要包括：（1）制备石墨和难熔金属的铱保护涂层；（2）在石墨和陶瓷基本上沉积铱薄膜。
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| 关 键 词： | 化学气相沉积 铱 涂层 薄膜 制备 |
| 文章编号： | 1004-0676(2002)01-0053-04 |
| 修稿时间： | 2000-11-07 |
Application of CVD Technique in Preparation of Iridium Coatings and Iridium Films |
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| Hu Changyi ,Li Jinhua ,Gao Yiqun ,Deng Deguo ,Yin Zhimin. Application of CVD Technique in Preparation of Iridium Coatings and Iridium Films[J]. Precious Metals, 2002, 23(1): 53-56 |
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| Authors: | Hu Changyi Li Jinhua Gao Yiqun Deng Deguo Yin Zhimin |
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| Affiliation: | Hu Changyi 1,Li Jinhua 1,Gao Yiqun 1,Deng Deguo 1,Yin Zhimin 2 |
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| Abstract: | |
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| Keywords: | CVD Iridium Coating Film |
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