| Mn0.1Ti0.9O2-δ稀磁半导体薄膜的MBE生长及表征 |
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| 引用本文： | 夏延秋,吴曙翔,刘雅晶,于晓龙,李树玮. Mn0.1Ti0.9O2-δ稀磁半导体薄膜的MBE生长及表征[J]. 半导体学报, 2007, 28(7) |
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| 作者姓名： | 夏延秋 吴曙翔 刘雅晶 于晓龙 李树玮 |
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| 基金项目： | 国家自然科学基金 , 广东省广州市科技计划 |
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| 摘 要： | 采用OPA-MBE方法在SrTiO3(STO)衬底上成功制备了Mn0.1Ti0.9O2-δ(MTO)稀磁半导体薄膜.利用X射线衍射仪、X射线光电子能谱仪、紫外可见光分度计以及直流四探针测试仪研究了薄膜的晶体结构、化学组成、光吸收和电荷输运性质.MTO薄膜具有锐钛矿和金红石的混合相,光吸收带边界发生"红移",电荷输运性质明显提高,室温环境下电阻率仅为37.5Ω·m.
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| 关 键 词： | Mn0.1Ti0.9O2-δ薄膜 稀磁半导体 OPA-MBE X射线光电子能谱 稀磁半导体 薄膜 生长 表征 Diluted Magnetic Semiconductor Characterization Molecular Beam Epitaxy Film 电阻率 室温环境 红移 发生 边界 吸收带 混合相 金红石 锐钛矿 电荷输运性质 光吸收 化学组成 |
Characterization of Diluted Magnetic Semiconductor Mn0.1Ti0.9O2-δ Thin Film Grown by Molecular Beam Epitaxy |
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| Xia Yanqiu,Wu Shuxiang,Liu Yajing,Yu Xiaolong,Li Shuwei. Characterization of Diluted Magnetic Semiconductor Mn0.1Ti0.9O2-δ Thin Film Grown by Molecular Beam Epitaxy[J]. Chinese Journal of Semiconductors, 2007, 28(7) |
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| Authors: | Xia Yanqiu Wu Shuxiang Liu Yajing Yu Xiaolong Li Shuwei |
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