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离子注入Y^+对镍基合金渗铝层1100℃氧化膜生长应力的影响
引用本文:辛丽,李美栓,李铁藩.离子注入Y^+对镍基合金渗铝层1100℃氧化膜生长应力的影响[J].金属学报,1996,32(9):949-954.
作者姓名:辛丽  李美栓  李铁藩
作者单位:中国科学院金属腐蚀与防护研究所腐蚀与防护国家重点实验室
摘    要:利用氧化膜应力原位测量装置研究了离子注入1×10^17,1×10^16Y^+/cm^2对Ni-15Cr-6Al合金渗铝层氧化膜恒温生长应力的影响。结果表明,离子注入上述二种剂量的Y^+对合金渗铝层在1100℃的氧化动力学没有显著影响,但降低了氧化膜的恒温生长应力。通过对实验结果进行分析,认为离子注入Y^+降低Al2O3膜的生长应力,增强氧化膜的粘附性的原因在于改变了氧化膜的生长机制和促进了膜的塑性

关 键 词:镍基合金  氧化  生长应力  离子注入  渗铝
收稿时间:1996-09-18
修稿时间:1996-09-18

INFLUENCES OF Y~+-IMPLANTATION ON GROWTH STRESS OF OXIDE SCALE FORMED ON ALUMINIZED Ni-BASE ALLOY
XIN Li,LI Meishuan,LI Tiefan.INFLUENCES OF Y~+-IMPLANTATION ON GROWTH STRESS OF OXIDE SCALE FORMED ON ALUMINIZED Ni-BASE ALLOY[J].Acta Metallurgica Sinica,1996,32(9):949-954.
Authors:XIN Li  LI Meishuan  LI Tiefan
Affiliation:XIN Li,LI Meishuan,LI Tiefan (Corrosion Science Laboratory,Institute of Corrosion and Protection of Metals,Chinese Academy of Sciences,Shenyang )
Abstract:
Keywords:oxidation  growth stress  Y~+-implantation  aluminized Ni-based alloy
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