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掺杂Ti对Fe—N薄膜结构与磁性的影响
引用本文:王合英,姜恩永,白海力,吴萍,刘明升.掺杂Ti对Fe—N薄膜结构与磁性的影响[J].金属学报,1996,32(11):1199-1203.
作者姓名:王合英  姜恩永  白海力  吴萍  刘明升
作者单位:天津大学,天津大学应用物理系
基金项目:国家自然科学基金;;中关村联合测试基金;;天津市21世纪青年科学基金
摘    要:用对向靶溅射仪制备出含多量Fe(16)N2相的(Fe,Ti)-N薄膜,研究了掺杂Ti对Fe-N薄膜结构与磁性的影响,在溅射Fe-N薄膜时加入适量的Ti可提高Fe-N薄膜中Fe(16)N2相的含量.Ti含量(原子分数)在0—25%时薄膜饱和磁化强度均高于纯Fe的值;Ti浓度为10%时,薄膜磁化强度高达2.68T,比纯Fe的饱和磁化强度值高20%.

关 键 词:对向靶溅射  掺杂  磁性  薄膜  
收稿时间:1996-11-18
修稿时间:1996-11-18

EFFECTS OF Ti DOPING ON THE STRUCTURE AND MAGNETIC PROPERTY OF Fe-N FILMS
WANG Heying,JIANG Enyong,BAI Haili,WU Ping,LIU Mingsheng.EFFECTS OF Ti DOPING ON THE STRUCTURE AND MAGNETIC PROPERTY OF Fe-N FILMS[J].Acta Metallurgica Sinica,1996,32(11):1199-1203.
Authors:WANG Heying  JIANG Enyong  BAI Haili  WU Ping  LIU Mingsheng
Affiliation:WANG Heying,JIANG Enyong,BAI Haili,WU Ping,LIU Mingsheng(Tianjin University,Tianjin )
Abstract:
Keywords:facing target sputtering  Fe16N2 thin film  Ti doping  magnetic property  structure
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